微透镜阵列元件作为一种重要的光学元件，具有体积小、重量轻、集成度高的特点，吸引了大量的目光。伴随着半导体工业的发展，光刻和微细加工技术的提高，自上世纪八十年代起，相继出现了一系列崭新的微透镜阵列制作技术。由于透镜阵列器件分为折射型微透镜阵列和衍射型微透镜阵列，它们在制作工艺也开发出不同的方法。

　　折射微透镜的制作方法

　　由于折射微透镜阵列器件在聚光、准直、大面阵显示、光效率增强、光计算、光互连及微型扫描等方面越来越广泛的应用，它的制作工艺和方法得到了日益深入的研究。到目前为止，已经出现很多制备折射微透镜阵列的方法，光刻胶热回流方法、激光直写方法、微喷打印法、溶胶一凝胶法、反应离子刻蚀法、灰度掩模法、热压模成型法、光敏玻璃热成型法删等。下面主要介绍几种主流的微透镜阵列制作方法。

　　微透镜阵列元件多种选项

　　微透镜阵列有 8 种焦距，从 4.8mm 到 32.8mm 不等。根据所选的焦距和节距(透镜内间隔)，发散角可以在 ±0.25°和 ±2°之间。

　　使用光刻制造

　　这些微透镜阵列使用基于半导体处理技术的光刻技术制造。微透镜阵列可产生特别精确的透镜轮廓和精确的透镜定位。

　　折射型微透镜阵列及微棱镜阵列：

　　微透镜子孔径范围：10um-3000um ;

　　排列方式：四边形排列、六边形排列、任意排列;

　　填充因子：100%;

　　工作波段：可见光(石英)、近红外及中远红外(硅、锗、ZnS、ZnSe等)

　　实用化程度：已经在大幅面显示、大视场成像、立体成像、激光消想干系统等民用领域与自适应光学、激光整形等军用领域得到大量应用，技术成熟稳定，可依据客户需要定制;